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KRi 離子源電源控制器 Power Supplies
上(Superior)海伯東美國(Country) KRi 提供的(Of)離子源模塊化電源控制器, 可以(By)操作(Do)各種離子, 等離子體和(And)電子源, 用(Use)于(At)在(Exist)等離子體處理中, 輸出(Out)穩定和(And)可重複功率的(Of)動态負載. 可以(By)在(Exist)惡劣的(Of)環境中正常運轉, 易于(At)系統集成.
離子源電源控制器由多個(Indivual)模組組成, 模組的(Of)特性取決于(At)功率, 頻率, 電壓, 電流和(And)控制方式, 大(Big)多數模組都滿足 CE 和(And) CoHS 标準.
連續性和(And)穩定性: 能夠在(Exist)緊急情況下比如載入高能量的(Of)等離子體, 短路, 電流過沖, 電壓過沖和(And)功率過沖的(Of)情況, 實現保護功能. 确保在(Exist)運行沉積和(And)刻蝕工藝時(Hour)進行不(No)間斷的(Of)操作(Do). 通過數顯的(Of)面闆, 可以(By)即時(Hour)觀測和(And)控制工藝參數和(And)狀态資訊.
KRi 模塊化電源包括但不(No)限于(At)以(By)下産品:
無栅網霍爾電源
DC 直流電源集成中和(And)器
RFICP 射頻電源
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電源控制器型号 |
對應 KRi 離子源型号 |
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RF1520-220 1500V & 2.0 output |
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RF1510-220 1500V & 1.0A output |
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RF1510-206 1500V & 1.0A output |
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RF1510-206 1500V & 1.0A output |
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RF1502-206 1500V & 0.2A output |
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KSC1212 100V & 13A Output |
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KSC 1202 100V & 10A output |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在(Exist)美國(Country)創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生(Born)産考夫曼離子源, 霍爾離子源和(And)射頻離子源. 美國(Country)考夫曼離子源曆經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用(Use)于(At)離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上(Superior)海伯東是(Yes)美國(Country)考夫曼離子源中國(Country)總代理.
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