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電子束鍍膜機加裝霍爾離子源
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電子束鍍膜機加裝霍爾離子源

電子束鍍膜機加裝霍爾離子源
上(Superior)海伯東客戶某生(Born)産光學鏡片公司采購美國(Country) KRI 考夫曼公司大(Big)尺寸霍爾離子源 EH 2000 加裝于(At)電子束鍍膜機用(Use)于(At)望遠鏡用(Use)金屬零部件 IBAD 輔助鍍膜!

上(Superior)海伯東電子束鍍膜機加裝離子源典型案例: 根據客戶 Φ1.2m 鍍膜腔體尺寸, 基材尺寸和(And)工藝條件, 推薦選用(Use)霍爾離子源 eh2000 HC, 配置中空陰極, 中和(And)器, 自動控制器
1. 設備: Φ1.2m 電子束鍍膜機.
2. 基材:望遠鏡用(Use)零部件, 鍍鋁 Al, 最外層鍍一(One)層二氧化矽 SiO2, 做爲(For)保護膜
3. 加裝霍爾離子源: eh2000HC, 通氧氣
3. 離子源條件: Vb:120V ( 離子束陽極電壓 ), Ib:14A ( 離子束陽極電流 ), O2 gas:45sccm( 氧氣 ).
4. 離子源應用(Use): 望遠鏡用(Use)零部件鍍金屬膜
電子束鍍膜機加裝離子源腔體内中的(Of)霍爾離子源 eh2000HC                                   通氧氣 O2               霍爾離子源 eh2000HC 自動控制器
 

離子源

美國(Country) KRI 霍爾離子源 eh2000HC 主要(Want)技術規格
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 4”
放電電壓 / 電流: 50-250V / 15A
可通氣體: Ar, O2, N2,H2
離子束發散角度：> 45° (hwhm)
水冷

1978 年 Dr. Kaufman 博士在(Exist)美國(Country)創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生(Born)産考夫曼離子源, 霍爾離子源和(And)射頻離子源. 美國(Country)考夫曼離子源曆經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用(Use)于(At)離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上(Superior)海伯東是(Yes)美國(Country)考夫曼離子源中國(Country)總代理.

鑒于(At)客戶信息保密, 若您需要(Want)進一(One)步的(Of)了(Got it)解霍爾離子源, 請參考以(By)下聯絡方式
上(Superior)海伯東: 葉小姐                                  台灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 107             T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049
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