普發氦質譜檢漏儀

上(Superior)海伯東德國(Country) Pfeiffer 殘氣質譜儀 RGA 應用(Use)于(At)角分辨光電子能譜儀 XPS
光電子能譜儀（photoelectron spectrograph）利用(Use)光電效應測出(Out)光電子的(Of)動能及其數量的(Of)關系，由此來(Come)判斷樣品表面各種元素含量，并可分析固、液、氣樣品中除氫以(By)外的(Of)一(One)切元素。
角分辨 XPS 應用(Use)于(At)各種固體材料表面（界面）的(Of)元素及化學态的(Of)定性、半定量、結構分析及化學

鍵研究。
使用(Use)上(Superior)海伯東德國(Country)Pfeiffer殘氣分析質譜 QMG，對XPS系統的(Of)分析室殘餘氣體進行定性和(And)半定量分析，并針對殘餘氣體進行除氣措施，從而達到(Arrive)清潔樣品表面，減少空氣分子與标的(Of)電子的(Of)碰撞，最終得到(Arrive)金屬材料表面的(Of)元素及結構分析信息。
上(Superior)海伯東客戶案例：上(Superior)海某大(Big)學
角分辨光電子能譜儀+Pfeiffer殘餘氣體分析質譜應用(Use)試驗條件：
金屬樣品厚度：2nm
主真空室：1×10^-10 Torr
分辨率：0.8cV
電子槍束斑：75nm
靈敏度：80KCPS
信噪比：大(Big)于(At)70:1
角分辨：5°～90°
靈敏度：255 KCPS A1/Mg雙陽極靶
能量分辨率：0.3% 位置靈敏檢測器（PSD）  
角分辨光電子能譜儀配套上(Superior)海伯東德國(Country) Pfeiffer QMG 質譜分析儀配置:
1.測量範圍:1-300amu
2.檢測方式:Faraday/C-SEM
3.加熱溫度:1-200℃
4.離子源:開放式離子源

Pfeiffer 殘餘氣體質譜分析儀與友廠同級别質譜分析儀相比，更适用(Use)于(At)移動應用(Use)，并且提供高解析度和(And)靈敏度，可對氣體進行定性和(And)定量分析，應用(Use)範圍廣泛，從大(Big)氣壓力到(Arrive)高真空均可使用(Use)。


若您需要(Want)進一(One)步的(Of)了(Got it)解在(Exist)線質譜分析儀 OmniStar® / ThermoStar®, 請參考以(By)下聯絡方式：
上(Superior)海伯東: 葉小姐                             台灣伯東: 王小姐
M: +86 1391-883-7267                  T: +886-3-567-9508 ext 161
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