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渦輪分子泵應用(Use)于(At) ITO 鍍膜生(Born)産線
ITO Indium Tin Oxide, 銦錫氧化物, 結晶具有體心立方鐵錳礦結構, 是(Yes)一(One)種重摻雜, 高簡并的(Of)寬禁帶型半導體材料, 具有優良的(Of)導電性, 可見光透過率以(By)及紅外反射率, 而且還具有高硬度, 耐磨性, 耐化學腐蝕特性. 因此廣泛應用(Use)于(At)平闆顯示器 FPD 和(And)太陽能電池. 通常制備 ITO 薄膜的(Of)方法有溶膠凝膠法, 磁控濺射法, 脈總激光沉積和(And)電子束蒸發等.
ITO 鍍膜過程必須在(Exist)幹淨清潔的(Of)真空系統中
上(Superior)海伯東普發 Pfeiffer HiPace 渦輪分子泵清潔無油, 最大(Big)極限真空度可達 10-11mbar, 轉子速率可達 90000rpm, 廣泛應用(Use)于(At)ITO 鍍膜生(Born)産線.
上(Superior)海伯東 ITO 鍍膜生(Born)産線客戶案例: 深圳某企業爲(For)全球最熱門的(Of)蘋果公司提供手機顯示屏, Pfeiffer 分子泵因其優秀性能應用(Use)在(Exist) ITO 生(Born)産線中,上(Superior)海伯東作(Do)爲(For)德國(Country)普發 Pfeiffer 真空設備中國(Country)區銷售公司, 提供完善的(Of)售前,售後服務并得到(Arrive)客戶一(One)緻的(Of)好評.
Pfeiffer 渦輪分子泵抽速範圍 10 至 2700 L/S, 轉速最高 90,000 rpm, 極限真空最大(Big) 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的(Of)壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運行時(Hour)間可以(By)達到(Arrive) 100,000 小時(Hour)! 普發分子泵提供複合軸承分子泵和(And)五軸全磁浮分子泵二大(Big)系列滿足不(No)同應用(Use), 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和(And)幹泵共同使用(Use). 更多分子泵典型應用(Use) >>
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