普發氦質譜檢漏儀

氦質譜檢漏儀 PECVD 檢漏
上(Superior)海伯東代理德國(Country) Pfeiffer 多功能多用(Use)途氦質譜檢漏儀 ASM 340 成功應用(Use)于(At) PECVD 設備檢漏

PECVD: ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 等離子體增強化學氣相沉積法 )是(Yes)借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的(Of)氣體電離, 在(Exist)局部形成等離子體, 而等離子體化學活性很強, 很容易發生(Born)反應, 在(Exist)基片上(Superior)沉積出(Out)所期望的(Of)薄膜. 爲(For)了(Got it)使化學反應能在(Exist)較低的(Of)溫度下進行, 利用(Use)了(Got it)等離子體的(Of)活性來(Come)促進反應, 因而這(This)種 CVD 稱爲(For)等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD).

PECVD 檢漏原因: PECVD 工作(Do)環境需要(Want)兩個(Indivual)必要(Want)條件: 低溫和(And)真空, 由于(At) PECVD 結構複雜, 組成部分較多, 各組件通過各種法蘭接口連接, 當長時(Hour)間運行時(Hour)可能造成接口或管路松動, 設備漏氣, 導緻真空度抽不(No)下來(Come), 影響沉積薄膜的(Of)質量, 這(This)時(Hour)就需要(Want)通過檢漏來(Come)排查漏點. 常規的(Of)檢漏如塗肥皂水等方法, 耗時(Hour)耗力且精度低, 容易受操作(Do)人(People)員幹擾, 所以(By)利用(Use)氦質譜檢漏儀的(Of)排查方法越來(Come)越廣泛使用(Use).

上(Superior)海伯東 PECVD 設備檢漏儀客戶案例一(One): 中科院某研究所, 通過采購上(Superior)海伯東德國(Country) Pfeiffer 機械泵 Pfeiffer DUO 20 和(And)分子泵 Hipace 1200 聯用(Use)獲得穩定的(Of)高真空并追加采購檢漏儀, 滿足日常檢漏需要(Want).
PECVD 檢漏方法: 采用(Use)檢漏儀的(Of)真空法進行檢漏, 對懷疑有漏的(Of)地方噴氦氣, 如果檢漏儀報警, 則表明此處有漏! 伯東客戶中科院某研究所目前現有多台舊款 Adixen ASM 142 檢漏儀, 因爲(For)設備增加, 在(Exist)經過工程師推薦後采購檢漏儀 ASM 340.

上(Superior)海伯東 PECVD 設備檢漏儀客戶案例二: 某電子材料有限公司生(Born)産太陽能矽片, 高效 N型太陽能電池等, 生(Born)産設備采用(Use)荷蘭TEMPRESS PECVD, 依照工藝要(Want)求, 在(Exist)1分鍾的(Of)測試時(Hour)間内, 壓力變化不(No)能超過 4mtorr, 否則就要(Want)檢漏. 氦質譜檢漏儀主要(Want)用(Use)來(Come)定位漏點, 針對進出(Out)氣管道, 焊接處, 法蘭都位置進行檢漏 ,一(One)般漏率要(Want)求在(Exist) 1.0×10-8 mbarl/s.


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